光催化高級氧化介紹

MP UV-H2O2技術：中壓紫外(MP UV) 消毒技術是基于中壓紫外燈技術發展而來，中壓紫外燈具有功率高(單支>1kW)、體積小、廣譜性(主要波長范圍在180-480nm之間)等特點，可促進H2O2分解產生羥基自由基，有效處理高濃度難降解廢水。

技術原理：在紫外線激發下H2O2可產生具有很強氧化性的羥基自由基，可將有機污染物最終礦化為CO和H2O，其中間產物具有較多含氧官能團， 有效提高了廢水的可生化性。

圖1光催化氧化反應原理

光催化高級氧化 技術優勢  

1） 處理高濃度廢水和難降解廢水， 有效降低COD及TOC指標。

2） 針對單一污染物的100%降解

3） 經處理后的廢水生化性有效提高(最高可達100%)

4） 系統可將污染物有效降解或直接礦化，不產生二次污染

5） 集成化設備，物聯網云控制技術，可通過手機APP/電腦終端24h監控設備運行狀態并對設備進行操控

光催化高級氧化介紹的應用

1） 高濃度高難度化工廢水（芳香烴廢水 ，含苯廢水，染料廢水，有機氮廢水，有機磷廢水，有機硫廢水 ，EDTA、MTBE、NDMA等廢水

2） 制藥廢水（氨基酸廢水，抗生素廢水，甲醇、乙醇、甲酸類廢水，糖類、蛋白質、脂類廢水）

3） 垃圾滲濾液（腐殖酸廢水，苯胺、烷基苯胺、鄰硝基苯胺等廢水，磷酸酯、鄰苯二甲酸酯、酚類等廢水）