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消毒副產物NDMA丨對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)

更新時間: 2025-10-31
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  對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
 
  隨著水質分析技術的進步和公眾健康意識的提升,除了傳統關注的三鹵甲烷(THMs)和鹵乙酸(HAAs),一類被稱為“新興消毒副產物(EDBPs)”的污染物也逐漸受到重視。其中,(NDMA)因其強的致癌性(美國環保署將其歸為B2類致癌物,終生致癌風險濃度僅為0.7 ng/L)成為研究焦點。
 
  01
 
  背景介紹
 
  NDMA在水處理過程中主要通過含氮有機物前體(如二甲胺)在氯胺(尤其是一氯胺)或氯消毒條件下,經復雜反應生成。此外,部分工業排放和制藥行業也是NDMA的重要來源。
消毒副產物NDMA丨對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
  由于NDMA具有高水溶性和低分子量,常規的混凝、沉淀、過濾等工藝對其去除效率極低,傳統氯消毒反而可能促進其生成。因此,NDMA的深度處理技術已成為現代飲用水處理領域亟需解決的重大課題。
 
  紫外線技術憑借其消毒和光化學轉化的雙重能力,為NDMA的控制提供了獨特且有效的解決方案。通過紫外線技術,可以從“預防生成”和“深度去除”兩個層面系統解決飲用水中的NDMA問題。
 
  02
 
  NDMA的特性、形成機理與風險
消毒副產物NDMA丨對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
  ? 特性
 
  NDMA(分子式:C?H?N?O)是一種淡黃色、低揮發性、高水溶性的小分子化合物,這些特性使其難以通過空氣吹脫或常規吸附有效去除。
 
  ? 形成機理
 
  機理為:水中存在二甲胺(DMA)、三甲胺(TMA)等叔胺類化合物,或含二甲胺基團的藥物、農藥等,在氯化作用下,氯胺與二甲胺反應生成(UDMH),UDMH進一步氧化,最終形成NDMA。
 
  值得注意的是,高pH值、過量氯胺和較長反應接觸時間都會顯著促進NDMA的生成。因此,從源頭控制前體物、優化消毒策略(如采用基于紫外線的多屏障消毒策略)是預防NDMA生成的第一道防線。
 
  ? 風險
 
  毒理學數據顯示,NDMA具有很強的致突變性和致癌性,對肝臟、腎臟等器官均有損傷。世界衛生組織(WHO)及多國均為其制定了極為嚴格的飲用水標準(通常為納克/升級別)。NDMA的形成主要與氯消毒,特別是氯胺相關。
 
  03
 
  紫外線光解
 
  解決NDMA問題的最直接方式
 
  紫外線技術去除NDMA并非依賴單一機制,而是基于光化學原理的多路徑協同體系。其核心機制是直接光解,這是經濟高效的方式。NDMA分子在紫外光譜區,尤其是220-260 nm范圍內,具有強烈的吸收峰。當UV光子被NDMA分子吸收后,其N-N鍵發生均裂,生成二甲胺自由基和·NO自由基,這些中間產物可進一步氧化或發生其他反應,最終礦化為無害的硝酸鹽、甲胺和二氧化碳。
 
  主要反應
消毒副產物NDMA丨對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
  紫外線光解技術的優勢在于高量子產率。NDMA的直接光解量子產率較高(在254 nm波長下約為0.3),每個被吸收的光子有較高概率引發降解反應,能量利用效率很高,且光解速率常數遠高于許多其他有機微污染物。這意味著在較低的UV劑量下即可實現有效降解。
 
  光源選擇方面,中壓紫外燈(MPUV)是優選,因為其寬譜輸出(200-400nm)能覆蓋NDMA的最大吸收波段。相比主要輸出254 nm的低壓紫外燈(LPUV),在同等電功率輸入下,MPUV對NDMA的降解效率通常高出30%-50%。
消毒副產物NDMA丨對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
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  核心反應器
 
  劑量設計方面,為實現1-2個數量級(90%-99%)的NDMA去除,通常需要施加數百至一千 mJ/cm²的UV劑量,這遠高于常規消毒所需劑量(40 mJ/cm²)。因此,設備選型和能量配置需以此為基準。需要注意的是,系統劑量與摩爾吸光系數高度相關,通俗來說就是紫外線透過率(UVT),劑量設計首先要考慮UVT的波動。
 
  04
 
  紫外高級氧化工藝(UV-AOPs)
 
  解決NDMA問題的有效方式
 
  當水體背景復雜,存在大量紫外吸光物質(如天然有機物NOM)與NDMA競爭光子時,直接光解效率會因“內濾效應”大幅降低。此時需引入紫外高級氧化技術(UV-AOPs),如UV/H?O?工藝。
消毒副產物NDMA丨對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
安力斯高級氧化系統
 
  UV光解H?O?可產生強氧化性的·OH自由基。·OH無選擇性地攻擊NDMA分子,通過氫原子抽取等途徑使其降解。·OH的氧化性很強,反應速率常數很高,能有效克服背景有機物對光子的競爭,保證在復雜水質下NDMA的穩定去除。
消毒副產物NDMA丨對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
安力斯紫外高級氧化設備
 
  此外,紫外高級氧化體系中同時存在直接光解和·OH氧化兩條路徑,處理效果更有保障。該技術適用于UVT較低(如<90%)、NDMA前體物濃度高或需同時去除多種微量有機污染物的場景。
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